秀洲區(qū)硅片清洗超純水設備/按需定制

高純度：硅片表面極為敏感，水中的雜質離子如鈣、鎂、鐵、氯、硫酸根等會在硅片表面吸附或形成化合物，影響硅片的電學性能和后續(xù)工藝。通常要求超純水的電阻率達到 18.2MΩ?cm 以上，幾乎不含任何離子雜質。

低顆粒度：硅片制造工藝不斷向精細化發(fā)展，微小顆粒會導致光刻圖案失真、短路等問題。因此，用于硅片清洗的超純水需要嚴格控制顆粒數量，一般要求每升水中大于 0.1μm 的顆粒數不超過 100 個。

低微生物含量：微生物在硅片表面生長繁殖會改變硅片表面化學性質，還可能釋放出代謝產物污染硅片。所以，超純水的微生物指標要求**，通常每毫升水中細菌總數不超過 1CFU。

低有機物含量：有機物可能在硅片表面形成有機膜，影響硅片與其他材料的粘附性和化學反應活性。一般要求超純水中的總有機碳（TOC）含量低于 10ppb