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等離子去膠機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱深圳市東信高科自動化設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號TS-ET15
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/3/4 13:13:59
  • 訪問次數382
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深圳市東信高科自動化設備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早期一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術、射頻及微波等離子體技術研發(fā)、生產、銷售于一體的國家髙新技術企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設于香港。目前公司設立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動化設備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產品涉及等離子體表面處理設眢,超聲波淸洗設備、電鍍、制冷等環(huán)保自動化設備等。公司現有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級研發(fā)工程師近40余人,售后服務25余人。 為適應國內外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯合德國等離孑體硏究所,中囯等離子硏究所,囯內外科硏機構,投入相當大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機、等離子刻蝕機、等離子去膠機、等離子表面處理設備、電漿清洗機及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場實踐及等離子新技術研究和應用,成功的推動了我國低溫等離子技術在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學合成和和氣、液、固態(tài)物質的處理方面的發(fā)展。 憑借公司的強大研發(fā)實力,東信高科已成功申請多項技術。目前經過近二十年的發(fā)展,公司產品先后經過了四次升級換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團、愛普生電子、中國兵器集團、、東南大學光電實驗室、藍思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學、信利光電、德昌電機、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達成戰(zhàn)略合作協議,成為上述企業(yè)和單位的設備供應商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務的經營理念,立足中國,面向,打的等離子表面處理設備供應商和服務商!
半導體超聲波清洗機
產品介紹等離子去膠機產品參數:設備型號TS-ET15等離子去膠機控制方式PLC+觸摸屏供電電源AC220V(±10V),50/60hz等離子源功率300W(連續(xù)可調)等離子源頻率13.56MHz工藝氣體通道2路氣體通道
等離子去膠機 產品信息

產品介紹

等離子去膠機產品參數:

設備型號 TS-ET15等離子去膠機
控制方式 PLC+觸摸屏
供電電源 AC220V(±10V),50/60hz
等離子源功率 300W(連續(xù)可調)
等離子源頻率 13.56MHz
工藝氣體通道 2路氣體通道, 可通入氣體:氬氣、氫氣、氧氣、氮氣、空氣等
氣體流量控制 精密針閥式浮子流量計(2路)
內腔尺寸(方形) L270*W280*H200 mm 材質:316不銹鋼
電極板尺寸 230mm *230mm (可處理產品:8英寸晶圓,每次可處理一片)
外形尺寸(mm) 長550mm x 寬550mm x 高800mm

等離子去膠機產品特點:

去膠快速干凈

對清洗樣片無損傷

操作簡單方便

桌面式設計,占地面積小

可處理8英寸晶圓

等離子去膠機典型應用:

高劑量離子注入光刻膠的去除

濕法或干法刻蝕前后殘膠去除

MEMS中犧牲層的去除

去除化學殘余物

去浮渣工藝

SU-8光刻膠去除

負性光刻膠去除

可以利用等離子去膠機除去玻璃晶圓表面的部分殘余圖形化光刻膠。

等離子去膠介紹:

由于濕法去膠需消耗大量的酸、堿及有機溶劑等,成本既高,又有一定的毒性,而且采用丙酮棉花擦硅片表面膠膜時,容易造成鋁層劃傷.影響產品的質量和成品率。為了克服這些缺點,近年來發(fā)展了多種干式去膠方法。其中等離子去膠效果較好,普遍受到人們的重視,并已用于生產之中。下面簡單介紹它的工作原理。

什么叫等離子去膠

等離子體是屬于物質的第四態(tài),和固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)不同。建立等離子體需要和物質之間有能量的相互作用。例如,可以利用在高電場下氣體分子被激發(fā)電離而產生的冷放電現象。在低真空下,被電場加速的雜散電子跟氣體原子或分子相碰撞,一直到達這種碰撞是非彈性碰撞時,便產生二次發(fā)射電子,它們進一步再與氣體分子碰撞,這樣產生氣體放電擊穿,并保持動態(tài)平衡。在放電過程中,非彈性碰撞可以產生分子徼勵和自由基,它們的化學性質很活潑,但壽命很短,很快就會締合。當激發(fā)和締合的數量相等時,即達動態(tài)平衡,則維持等離子體狀態(tài)。

光刻膠的主要成分是樹脂、感光材料和有機溶劑,它們的分子結構都是由長鏈的碳、氫、氧組成。所謂等離了去膠是在反應系統(tǒng)中通人少量的氧氣,在強電場作用下,使低氣壓的氧氣產生等離子體,其中活化氧(或稱活潑的原子態(tài)氧)占有適當的比例,可以迅速地使光刻膠氧化生成CO2和H20等可揮發(fā)性氣體,被機械泵抽走.這桂把硅片上的光刻膠膜去除掉。

實踐表明,由于等離子去膠機操作方便,去膠效率高,表面干凈,無劃傷,硅片溫度低等,有利于確保產品的質量。它不用酸、堿及有機溶劑等,成本即低,又不會造成公害等。因此受到人們普遍重視,在生產中已逐步采用。

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