CMP拋光液一般由去離子水、磨料以及 pH 調(diào)節(jié)劑、氧化劑、分散劑和表面活性劑等化學(xué)助劑等組成，拋光液中磨料的作用是在晶圓和拋光墊的界面之間進(jìn)行機(jī)械研磨，以確保CMP過(guò)程中的高材料去除率。

拋光液的拋光性能，受其分散性和懸浮穩(wěn)定性的影響，隨著拋光液放置時(shí)間的延長(zhǎng)以及拋光過(guò)程中化學(xué)組分的變化，拋光液中的軟磨料或硬磨料都易發(fā)生凝膠現(xiàn)象，這會(huì)導(dǎo)致拋光過(guò)程中在晶圓表面留下劃痕，從而影響最終的拋光效果。

因此，如何制備具有良好分散穩(wěn)定性的拋光液是目前亟待解決的問(wèn)題。

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安拓思納米技術(shù)（蘇州）有限公司成立于2001年，隸屬于上海多寧集團(tuán)，是一家專(zhuān)業(yè)從事細(xì)胞工程、醫(yī)藥、精細(xì)化工、新能源材料、食品化妝品等納米制備設(shè)備與工藝輔助，集技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售于一體的蘇州高新技術(shù)企業(yè)。公司建有先進(jìn)標(biāo)準(zhǔn)化車(chē)間及復(fù)雜制劑納米化設(shè)備研究中心，提供從實(shí)驗(yàn)型到大型生產(chǎn)不同階段需求的設(shè)備及技術(shù)解決方案。

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