微射流高壓均質機配備具有微米孔道的微射流金剛石交互腔,對經過高壓加速超過音速(可達500m/s)的物料,進行*的剪切、壓力降、空穴、碰撞與對射爆裂作用。
微射流金剛石交互腔其固定的內部形狀,保證每次物料在相同壓力下,經過交互均質腔時收到相同的作用力,因而獲得*可重復的處理結果;通過相同形狀單金剛石微通道到多通道金剛石微通道的復制擴展,保證了效果一致的前提下,同時又增加了產能。
微射流高壓均質機適合制備納米乳、微乳、脂質體、微球以及進行各種納米材料單分散。接下來再給大家分享一下利用微射流高壓均質機進行材料納米分散的案例。
實驗步驟與結果:
1. 稱取要求量的納米材料,溶解于特定溶劑中,配置25%質量體積比(包含物料+輔料)的混懸液。由于納米材料*的比表面積和*的納米材料碰撞速度,配置好的樣品靜置10s,燒杯底部即可見明顯團聚沉淀。
2. 清洗微射流高壓均質機后,對物料進行磁力攪拌的狀態(tài)下,邊攪拌邊用魯爾軟管進樣,小壓力通過,預分散樣品后,沉降明顯變慢,不像剛制備出時那么容易沉降聚集。
3. 提高微射流處理壓力,進行高壓微射流納米分散,選擇合適的次數與壓力,摸索最佳處理工藝條件。
4. 利用Genizer納米粒度儀進行樣品分散效果測試。
客戶的粉末是粒徑俊逸的納米微球材料,由上面粒徑測試結果可以看出,溶于溶劑中,樣品顆粒聚集且顆粒粒徑分布較寬,少次處理結果顯示已經將團聚的顆粒高比例打散,而多次處理的結果,峰型近似一根針,且PDI極小,顯示樣品幾近*單分散。
1-300nm粒徑的納米材料,因具有極小的粒徑、高比表面積、高碰撞概率,使得有些納米材料在溶于溶劑中時,出現快速聚集沉降,而由于粒徑過小,普通設備無法對納米材料進行充分分散,影響納米材料的使用性能,而配備微射流金剛石交互腔的微射流高壓均質機,以其*的納米分散能力,可以對10nm以下納米材料進行充分單分散,100nm-300nm級別的物料更可獲得很好的納米分散效果。