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行業(yè)產(chǎn)品

  • 行業(yè)產(chǎn)品

南通華林科納半導(dǎo)體設(shè)備有限公司


  • 酸/堿刻蝕機(jī)

    詳細(xì)摘要: 刻蝕方法分為:干法刻蝕和濕法刻蝕,干法刻蝕是以等離子體進(jìn)行薄膜刻蝕的技術(shù),一般是借助等離子體中產(chǎn)生的粒子轟擊刻蝕區(qū),它是各向異性的刻蝕技術(shù),即在被刻蝕的區(qū)域內(nèi),...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:南通市更新時(shí)間:2025-02-13 在線留言

  • 芯片鍍金設(shè)備-CSE

    詳細(xì)摘要: 芯片鍍金設(shè)備-南通華林科納晶圓電鍍工藝在半導(dǎo)體、MEMS、LED和WLpackage等領(lǐng)域中應(yīng)用非常廣泛

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:南通市更新時(shí)間:2025-02-13 在線留言

  • 廢氣處理系統(tǒng)---CSE

    詳細(xì)摘要: 廢氣處理系統(tǒng)-南通華林科納南通華林科納半導(dǎo)體的廢氣處理系統(tǒng)可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負(fù)壓范圍為:-500Pa至-1500Pa

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  • 干燥系統(tǒng)-CSE

    詳細(xì)摘要: 干燥系統(tǒng)-華林科納適用于尺寸300mm晶圓的干燥技術(shù)優(yōu)點(diǎn)NID™干燥系統(tǒng)利用IPA和N2霧化分配

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  • GMP自動(dòng)供液系統(tǒng)-CSE

    詳細(xì)摘要: GMP自動(dòng)供液系統(tǒng)-南通華林科納ChemicalDispenseSystemSystem 南通華林科納半導(dǎo)體-GMP自動(dòng)供液系統(tǒng)適用對(duì)象:HF、HN03、KOH...

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  • 研磨液自動(dòng)供液系統(tǒng)-CSE

    詳細(xì)摘要: 研磨液自動(dòng)供液系統(tǒng)-南通華林科納ChemicalDispenseSystemSystem 南通華林科納半導(dǎo)體-研磨液自動(dòng)供液系統(tǒng)適用對(duì)象:HF、HN03、KOH...

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  • SPM腐蝕機(jī)-華林科納CSE

    詳細(xì)摘要: SPM腐蝕清洗機(jī)設(shè)備——華林科納華林科納濕法處理設(shè)備是國(guó)內(nèi)致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位,多年來(lái)與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作,研制開(kāi)發(fā)出適合于4吋-8吋的...

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  • IPA干燥系統(tǒng)設(shè)備-CSE

    詳細(xì)摘要: IPA干燥設(shè)備-華林科納南通華林科納-IPA干燥設(shè)備主要用于材料加工太陽(yáng)能電池片分立器件GPP等行業(yè)中晶片的沖洗干燥工藝

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  • 雙腔甩干機(jī)

    詳細(xì)摘要: 雙腔甩干機(jī)1.應(yīng)用范圍:l 本機(jī)臺(tái)適用於半導(dǎo)體2"4"6"8"晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設(shè)備為垂直式雙槽體機(jī)臺(tái)

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  • 旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)-CSE

    詳細(xì)摘要: 旋轉(zhuǎn)式噴鍍臺(tái)結(jié)合微組裝工藝對(duì)鍍制工藝的小批量、多規(guī)格和特殊應(yīng)用要求等特點(diǎn),在6"(150mm)晶圓電鍍系統(tǒng)中采用了傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍技術(shù)傾斜式旋轉(zhuǎn)噴鍍單元分由兩個(gè)部...

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  • 自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-CSE

    詳細(xì)摘要: 自動(dòng)供酸系統(tǒng)(CDS)-南通華林科納ChemicalDispenseSystemSystem 南通華林科納半導(dǎo)體-CDS自動(dòng)供酸系統(tǒng)適用對(duì)象:HF、HN03、K...

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  • 枚葉式清洗機(jī)-華林科納CSE

    詳細(xì)摘要: 枚葉式清洗機(jī)-華林科納南通華林科納半導(dǎo)體-單片枚葉式洗凈裝置的特長(zhǎng):?jiǎn)纹角逑囱b置的優(yōu)點(diǎn)(與浸漬

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  • 單片清洗機(jī)CSE

    詳細(xì)摘要: 單片清洗機(jī)-華林科納Singlewafercleanersystem南通華林科納-自動(dòng)單片式腐蝕清洗機(jī)應(yīng)用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕去膠金屬剝離等

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  • 外延片清洗機(jī)-CSE

    詳細(xì)摘要: 在LED外延及芯片制造領(lǐng)域,濕法設(shè)備占據(jù)約40%以上的工藝,隨著工藝技術(shù)的不斷發(fā)展,濕法設(shè)備已經(jīng)成為L(zhǎng)ED外延及芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵設(shè)備,如SPM酸清洗、有機(jī)清洗...

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  • 全自動(dòng)濕法去膠清洗機(jī)-CSE

    詳細(xì)摘要: 全自動(dòng)濕法去膠清洗機(jī)-南通華林科納華林科納濕法處理設(shè)備是國(guó)內(nèi)致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位

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  • 金屬剝離清洗機(jī)-CSE

    詳細(xì)摘要: 金屬剝離清洗機(jī)-南通華林科納微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)是指用微機(jī)械加工技術(shù)制作的包括傳感器/微致動(dòng)器/微能源/等微機(jī)械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機(jī)電器...

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  • 最終清洗機(jī)-華林科納CSE

    詳細(xì)摘要: 最終清洗機(jī)-華林科納華林科納濕法處理設(shè)備是國(guó)內(nèi)致力于集成電路濕法設(shè)備的研制單位,多年來(lái)與眾多的集成電路生產(chǎn)企業(yè)密切合作,研制開(kāi)發(fā)出適合于4吋-8吋的全自動(dòng)系列濕...

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:南通市更新時(shí)間:2025-02-13 在線留言

  • 石英管道清洗機(jī)設(shè)備-CSE

    詳細(xì)摘要: 石英管道清洗機(jī)設(shè)備-CSE

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:南通市更新時(shí)間:2025-02-13 在線留言

  • 零部件清洗機(jī)CSE

    詳細(xì)摘要: 零部件清洗機(jī)_華林科納CleanStep的零部件被設(shè)計(jì)用于PECVD刻蝕清洗設(shè)備,以及石墨舟、石英舟、碳化硅舟等擴(kuò)散舟的刻蝕和清洗設(shè)備

    產(chǎn)品型號(hào):所在地:南通市更新時(shí)間:2025-02-13 在線留言

  • 半自動(dòng)石英管清洗機(jī)

    詳細(xì)摘要: 1、設(shè)備概況:主要功能:本設(shè)備主要采用手動(dòng)搬運(yùn)方式,通過(guò)對(duì)擴(kuò)散、外延等設(shè)備的石英管、碳化硅管腐蝕、漂洗等方式進(jìn)行處理,從而達(dá)到一個(gè)用戶(hù)要求的清洗效果

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