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制藥水處理設(shè)備如何清洗才能做到干凈整潔

時間:2020/4/17
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   制藥的嚴格我們都非常了解,所有在制藥過程中的相關(guān)設(shè)備也有著非常嚴格的要求,這其中保持設(shè)備干凈整潔是基礎(chǔ)的一項。那么制藥水處理設(shè)備如何清洗才能做到干凈整潔呢?
  1、配制清洗液
  將藥劑加入潔凈的水中,且配制用水必須是去除硬度、不含過度金屬和余氯的RO產(chǎn)品水或去離子水。保證溶液要*混和均勻,并且把溫度和PH調(diào)到所需要的值。
  2、低流量輸入清洗液
  首先用清洗水泵混合一遍清洗液,預熱清洗液時應以低流量。然后以盡可能低的清洗液壓力置換元件內(nèi)的原水,其壓力僅需達到足以補充進水至濃水的壓力損失即可,即壓力必須低到不會產(chǎn)生明顯的滲透產(chǎn)水。低壓置換操作能夠大限度的減低污垢再次沉淀到膜表面,視情況而定,排放部分濃水以防止清洗液稀釋。
  3、循環(huán)
  當原水被置換掉后,濃水管路中就應該出現(xiàn)清洗液,讓清洗液循環(huán)回清洗水箱并保證清洗液溫度恒定。
  4、浸泡
  停止清洗泵的運行,讓膜元件*浸泡在清洗液中。有時元件浸泡1小時就足夠了,但對于頑固的污染物,需要延長浸泡時間,如浸泡10~15小時或浸泡過夜。為了維持浸泡過程的溫度,可采用很低的循環(huán)流量。
  5、高流量水泵循環(huán)
  高流量能沖洗掉被清洗液洗下來的污染物。如果污染嚴重,請采用高于表1所規(guī)定的50%的流量將有助于清洗,在高流量條件下,將會出現(xiàn)過高壓降的問題,單元件zui大允許的壓降為1bar(15psi),對多元件壓力容器zui大允許壓降為3.5bar(50psi),以先超出為限。
  6、沖洗
  用清潔水(去除硬度、不含金屬離子如鐵和氯的RO產(chǎn)品水或去離子水)進行低壓沖洗,沖洗系統(tǒng)內(nèi)的清洗液可以用預處理的合格產(chǎn)水,除非存在腐蝕問題。為了防止沉淀,zui低沖洗溫度為20度
  相信上述六大清洗步驟能夠讓制藥水處理設(shè)備用戶在使用過程中維護清洗更加的方便,使設(shè)備始終處于一個標準的工作狀態(tài)。

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