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低溫真空蒸餾設(shè)備使用須知
發(fā)布時間:2019-11-22一套完整的低溫真空蒸餾設(shè)備一般由蒸餾塔、再沸器、冷凝冷卻器、回流罐、物料泵、產(chǎn)品儲罐等部分組成,也可能是其中兩個或幾個部分的組合。簡單蒸餾系統(tǒng)通常是由蒸餾釜及其加熱裝置、冷凝冷卻器及受液槽組成。釜式蒸餾的加熱裝置有釜外夾套式,釜內(nèi)盤管式,有些物料還采用釜外直接火加熱式或電熱式。
在使用無錫冠亞低溫真空蒸餾設(shè)備的時候需要注意,蒸餾的物料,絕大多數(shù)有一定的危險,蒸餾過程中,還涉及系統(tǒng)(設(shè)備)內(nèi)壓力的變化。因此,低溫真空蒸餾設(shè)備要注意蒸餾釜底的殘留物,特別是間歇蒸餾過程的殘留物,如果是高沸點(diǎn)、高粘度、高溫下容易分解或發(fā)生聚合反應(yīng)的成分復(fù)雜的混合物,易在高溫下發(fā)生熱分解、自聚。高溫下操作的低溫真空蒸餾設(shè)備內(nèi),如進(jìn)入冷水或其他低沸點(diǎn)物質(zhì),瞬間會引起大量氣化造成設(shè)備內(nèi)壓力驟升,導(dǎo)致容器事故。蒸餾凝固點(diǎn)較高的物質(zhì),設(shè)備的出口管道被凝結(jié)、堵塞,會造成設(shè)備內(nèi)壓力升高,發(fā)生容器故障。蒸餾過程中一旦存在高、低溫物料,防護(hù)不當(dāng)則造成燙傷或凍傷。
低溫真空蒸餾設(shè)備連續(xù)蒸餾一般操作比較復(fù)雜,輔助設(shè)備多,蒸餾過程某一控制指標(biāo)或某一操作環(huán)節(jié)出現(xiàn)偏差,都會影響整個蒸餾系統(tǒng)的平衡,導(dǎo)致事故發(fā)生。如果蒸餾溫度過高,有造成超壓爆炸、泛液、沖料、過熱分解及自燃的危險;若溫度過低,則有風(fēng)險。若加料量超負(fù)荷,對于塔式蒸餾,則可使氣化量增大,使未冷凝的蒸汽進(jìn)入受液槽,導(dǎo)致槽體超壓爆炸。當(dāng)回流量增大時,不但會降低體系內(nèi)的操作溫度,而且容易出現(xiàn)淹塔致使操作失控。