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【設備更新儀器推薦】橢圓偏振光譜儀——UVISEL PLUS
產品名稱：橢圓偏振光譜儀
產地：法國
型號：UVISEL PLUS
典型用戶：NASA 戈達德太空飛行中心
01 儀器用途及應用范圍：
UVISEL 是 20 多年技術積累和發(fā)展的結晶，即使在透明的基底上也能對超薄膜進行精確的測量。作為一款高準確性、高靈敏度、高穩(wěn)定性的經典橢偏機型，它采用了 PEM 相位調制技術，與機械旋轉部件技術相比， 能提供更好的穩(wěn)定性和信噪比。
先進功能材料
先進功能材料
• 薄膜厚度、光學常數(shù)表征
• 材料/ 表面改性研究
• 粗糙度、孔隙率表征
• 漸變層、界面層等分析
• 穿過率、反射率曲線測量
汽車
• 薄膜厚度、光學常數(shù)表征
• 表面粗糙度、孔隙率表征
• 漸變層、界面層分析
• 透射率、反射率測量
• 涂層及鍍層分析
半導體材料
• 硅片上SiO? 薄膜厚度監(jiān)控
• 光刻膠n，k(190-2100nm)
• SiN，SiO? 等膜厚測試
• 第三代半導體外延薄膜厚度
能源/光伏
• 薄膜厚度、光學常數(shù)表征
• 工藝對鍍膜的影響分析
• 漸變層、界面層等分析
• 膜層不均勻性成像分析
• 在線監(jiān)測
02 產品特點：
• 50 KHz 高頻 PEM 相調制技術，測量光路中無運動部件
• 具備超薄膜所需的測量精度、超厚膜所需的高光譜分辨率
• 多個實用微光斑尺寸選項
• 可用于在線實時監(jiān)測
• 自動平臺樣品掃描成像、變溫臺、電化學反應池、液體池、密封池等
• 配置靈活，測量范圍可擴展至 190 nm~2100 nm
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04 索取樣本、聯(lián)系報價
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