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HORIBA 科學(xué)儀器事業(yè)部

【邀請函】HORIBA 攜半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)材料表征及制程監(jiān)控解決方案誠邀您出席SEMICON CHINA | 3月20-22日·上海

時(shí)間:2024-3-15
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  SEMICON CHINA 是全球較大規(guī)模的半導(dǎo)體年度盛會。HORIBA 將攜半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)材料表征及制程監(jiān)控解決方案出席本次展會,歡迎各位專家學(xué)者蒞臨交流。
 
 
 
HORIBA
材料表征核心技術(shù)

顆粒分析 橢圓偏振 拉曼光譜 輝光放電
 

 
HORIBA
材料表征解決方案

  •  應(yīng)力表征
 
  •  缺陷表征
 
  •  雜質(zhì)定量
 
  •  薄膜厚度
 
  •  光學(xué)常數(shù)
  •  元素隨深度分布
 
  •  CMP 顆粒表征
 
  •  硅片中氧含量
 
  •  污染物分析
 
  •  ......
 
 
 
 
  除半導(dǎo)體材料表征技術(shù)之外,HORIBA 還提供一系列制程監(jiān)控技術(shù),為半導(dǎo)體行業(yè)賦能。
 
  本方案融合材料表征制程監(jiān)控,旨在解決半導(dǎo)體行業(yè)在研發(fā)生產(chǎn)中面臨的不同挑戰(zhàn),幫助您獲得最佳性能的產(chǎn)品。
 
↓↓↓
 
HORIBA
半導(dǎo)體行業(yè)解決方案

 

  相關(guān)技術(shù)
 
 
  光譜學(xué)分析:通過紫外、可見和近紅外光譜分析材料
 
  顆粒分析:測量顆粒的粒徑、數(shù)量、分子量

  紅外分析:實(shí)時(shí)監(jiān)測氣體組分

  氣體流量控制:實(shí)時(shí)測量和控制流體流動的技術(shù)

  液體分析:測量液體成分或特性的技術(shù),如pH值,鹽度,酸度和堿度
 
  相關(guān)工藝
 
  材料表征、清洗、沉積、光刻工藝、刻蝕、化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)、工廠設(shè)施、封裝
 
  想要獲取更全面的半導(dǎo)體相關(guān)技術(shù)解決方案,歡迎您至我司展位,與技術(shù)專家現(xiàn)場溝通交流。
 
↓↓↓
 
SEMICON CHINA
展會信息

 
活動時(shí)間
3月20-22日
 
活動地點(diǎn)
上海新國際博覽中心
 
展臺編號
N2-2409
 
SEMICON CHINA
注冊好禮
 
掃描二維碼,提前注冊參會,拿精美禮品!

 

 
OPENDAY
3月23日 專家論壇

 
  為了提供國內(nèi)外技術(shù)專家、前端企業(yè)深入交流的平臺,HORIBA 于2024 年 3 月 23 日舉辦“HORIBA 開放日|半導(dǎo)體材料表征主題研討會“,針對光刻膠、寬禁帶材料掩膜等產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵,探討技術(shù)前沿,共謀行業(yè)發(fā)展!
 
  誠邀您參加!

 

 
  HORIBA 集團(tuán)·科學(xué)儀器事業(yè)部
 
  致力于為科研及工業(yè)用戶提供先進(jìn)的檢測和分析工具及解決方案。如:光學(xué)光譜、分子光譜、元素分析、材料表征及表面分析等先進(jìn)檢測技術(shù)。結(jié)合旗下具有201年發(fā)展歷史的 Jobin Yvon 光學(xué)光譜技術(shù),今天 HORIBA 的高品質(zhì)科學(xué)儀器已經(jīng)成為全球科研、各行業(yè)研發(fā)及質(zhì)量控制的優(yōu)先選擇。

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