當(dāng)前位置:HORIBA 科學(xué)儀器事業(yè)部>>公司動態(tài)>>【邀請函】HORIBA 攜半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)材料表征及制程監(jiān)控解決方案誠邀您出席SEMICON CHINA | 3月20-22日·上海
【邀請函】HORIBA 攜半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)材料表征及制程監(jiān)控解決方案誠邀您出席SEMICON CHINA | 3月20-22日·上海
材料表征核心技術(shù)
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顆粒分析 | 橢圓偏振 | 拉曼光譜 | 輝光放電 |
材料表征解決方案
• 應(yīng)力表征 • 缺陷表征 • 雜質(zhì)定量 • 薄膜厚度 • 光學(xué)常數(shù) | • 元素隨深度分布 • CMP 顆粒表征 • 硅片中氧含量 • 污染物分析 • ...... |
半導(dǎo)體行業(yè)解決方案
展會信息
3月20-22日
上海新國際博覽中心
N2-2409
注冊好禮
3月23日 專家論壇